Lámpara UV de galio para plancha de offset

Tue, 09 Jun 2026 05:37:48 +0800

En la feria de impresión de 2026, todos volvían una y otra vez a una demostración: nuestros módulos de lámparas UV de galio personalizados curando placas offset en tiempo real. Y no por marketing, sino porque era medible. Salida espectral consistente. Entrega de energía repetible. Un tipo de desempeño que se mantiene en prensa, no solo en el stand.

Qué realmente importa bajo el capó
Diseñamos estas lámparas de vapor de mercurio dopadas con galio en torno a la química de las placas offset que responde mejor a 365 nm, con un segundo pico alrededor de 385 nm para completar el curado sin dañar el sustrato. A una distancia de trabajo de 10 mm, la irradiancia máxima alcanza 1200 mW/cm², entregando entre 800 y 1200 mJ/cm² en una sola pasada. El reflector con recubrimiento dicroico mantiene el espectro concentrado, por lo que se logra la absorción del fotoiniciador donde es necesario y se reduce la radiación IR desperdiciada.
La densidad de potencia se establece en 120 W/cm a lo largo de la longitud del arco, y la estabilidad del arco se mantiene constante entre el 85 y el 95 % de la potencia nominal. Se garantiza un tiempo de operación de 3000 horas a máximo rendimiento antes de que la salida disminuya un 5 %, y proporcionamos datos de correspondencia lámpara-balasto para que la corriente de alimentación se mantenga dentro de la ventana nominal de la lámpara.

Compensar; Contrarrestar on UV Curing System

Lámpara UV de galio para plancha de offset