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		<title>Ausgleich; Abzug on UV Curing System</title>
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				<title>Gallium UV Lampe für Offsetplatten</title>
				<link>http://uv-curing-system.com/de/posts/gallium-uv-lamp-for-offset-plate/</link>
				<pubDate>Tue, 09 Jun 2026 05:37:48 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-curing-system.com/images/1dd7856afed9d1a9a2f49fb2a00ef960.png&#34; alt=&#34;Gallium UV Lampe für Offsetplatten&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h1 id=&#34;role&#34;&gt;Role&lt;/h1&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sie versammelten sich 2026 auf der Druckmesse immer wieder um eine Vorführung: unsere maßgeschneiderten Gallium-UV-Lampenmodule, die Offsetplatten direkt im Prozess aushärten. Und nicht wegen eines Hypes – sondern weil sich die Leistung messen lässt. Konstanter Spektralausgang. Wiederholbare Energielieferung. Die Art von Performance, die im Druckprozess standhält, nicht nur am Messestand.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Was unter der &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;Haube&lt;/a&gt; wirklich zählt&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Wir haben diese galliumdotierten Quecksilberdampflampen auf die Offsetplatten-Chemie abgestimmt, die bei 365 nm besonders wirksam ist, mit einem sekundären Spektralschulterbereich um 385 nm, um die Aushärtung abzuschließen, ohne das Substrat zu überhitzen. Bei einem Arbeitsabstand von 10 mm erreicht die Spitzenbestrahlungsstärke 1200 mW/cm² und liefert 800–1200 mJ/cm² in einem Durchgang. Der dichroitisch beschichtete Reflektor hält das Spektrum eng, sodass der Photoinitiator genau dort absorbiert, wo er soll, und IR-Anteile minimiert bleiben.&lt;/p&gt;</description>
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